Polovodičová keramická dýza

Polovodičová keramická tryska hrá dôležitú úlohu vHDP-CVD proces, slúži na presné riadenie prietoku plynu a zabezpečeniekvalitná depozícia filmu. Sprej s keramickou dýzou je precízne navrhnutý tak, aby zabezpečil konzistentné a kontrolovateľné prietoky plynu, čím sa minimalizujú možné turbulencie pri vstupe plynu do reakčnej komory.

Technické špecifikácie:

1.Materiálové zloženie:

Pieskovacia tryska VeTeK Semiconductor Ceramic sa zvyčajne vyrába z polovodičovej keramiky, ako je oxid hlinitý (Al2O3),karbid kremíka (SiC)alebo oxid zirkoničitý (ZrO2), tieto materiály majú vynikajúce vlastnosti:

    • vysoká tepelná stabilita (odoláva teplotám nad 1000 ℃)

    • odolnosť proti korózii reaktívnymi plynmi používanými vCVD procesy(ako je silán, amoniak)

    • odolnosť voči nepretržitému vystaveniu plazme.

2. Konštrukčný návrh:

    • Veľkosť otvoru: Otvor polovodičovej keramickej trysky je vedecky navrhnutý tak, aby umožňoval presnú kontrolu prietoku plynu, čo následne ovplyvňuje rovnomernosť a hrúbku filmu.

    • Uhly a geometrie: Presne navrhnuté tak, aby zabezpečili rovnomernú distribúciu plynu naprieč substrátom a minimalizovali chyby v nanesenej vrstve.

V polovodičovom priemysle zohrávajú polovodičové keramické tryskacie trysky kľúčovú úlohu predovšetkým v procese HDP-CVD. Používajú sa aj na nanášanie tenkých vrstiev na výrobu mikroelektroniky, čím sa zabezpečujú vysokokvalitné povrchové nátery, ktoré sú rovnomerné a bez nečistôt.

Predajne polovodičových keramických dýz VeTeK: