Domov
O nás
O spoločnosti
FAQ
Produkty
Povlak z karbidu tantalu
Náhradné diely pre proces rastu jedného kryštálu SiC
Proces epitaxie SiC
UV LED Susceptor
Povlak z karbidu kremíka
Pevný karbid kremíka
Silikónová epitaxia
Epitaxia karbidu kremíka
Technológia MOCVD
Proces RTA/RTP
ICP/PSS proces leptania
Iný proces
ALD
Špeciálny grafit
Pyrolytický uhlíkový povlak
Sklovitý uhlíkový povlak
Porézny grafit
Izotropný grafit
Silikonizovaný grafit
Grafitová doska s vysokou čistotou
Uhlíkové vlákno
C/C kompozit
Pevná plsť
Mäkká plsť
Keramika z karbidu kremíka
SiC prášok vysokej čistoty
Oxidačná a difúzna pec
Iná polovodičová keramika
Polovodičový kremeň
Keramika z oxidu hlinitého
Nitrid kremíka
Porézny SiC
Oblátka
Technológia povrchovej úpravy
Technický servis
Správy
Novinky spoločnosti
Správy z priemyslu
Stiahnuť ▼
Stiahnuť ▼
Odoslať dopyt
Kontaktujte nás
Slovenský jazyk
English
Español
Português
русский
Français
日本語
Deutsch
tiếng Việt
Italiano
Nederlands
ภาษาไทย
Polski
한국어
Svenska
magyar
Malay
বাংলা ভাষার
Dansk
Suomi
हिन्दी
Pilipino
Türkçe
Gaeilge
العربية
Indonesia
Norsk
تمل
český
ελληνικά
український
Javanese
فارسی
தமிழ்
తెలుగు
नेपाली
Burmese
български
ລາວ
Latine
Қазақша
Euskal
Azərbaycan
Slovenský jazyk
Македонски
Lietuvos
Eesti Keel
Română
Slovenski
मराठी
Srpski језик
Domov
>
Stiahnuť ▼
Stiahnuť ▼
Viac podrobností o parametroch produktov, obsiahlejší technický návod nájdete v našom PDF, alebo nás kontaktujte priamo.
Vetek Semiconductor
Stiahnuť ▼
Vysoko čistý SiC prášok
Stiahnuť ▼
<
1
>
Tina
VeTek
Hit enter to search or ESC to close
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies.
Privacy Policy
Reject
Accept