Aixtron MOCVD receptor

Susceptory vyrobené spoločnosťouVetek Semiconductorsú vyrobené z grafitového substrátu a povlakového materiálu z karbidu kremíka (SiC). Vzhľadom na vyššiu odolnosť proti opotrebovaniu, koróziu a extrémne vysokú tvrdosť SiC materiálu je obzvlášť vhodný na použitie v náročných procesných prostrediach. Preto môžu byť susceptory vyrábané spoločnosťou Vetek Semiconductor priamo použité vo vysokoteplotných procesoch MOCVD bez dodatočnej povrchovej úpravy.

Susceptory sú kľúčovými komponentmi vo výrobe polovodičov, najmä v zariadeniach MOCVD pre procesy nanášania tenkých vrstiev. Hlavná úloha oPrijímač Aixtron SiCv procese MOCVD je niesť polovodičové doštičky, zabezpečiť rovnomerné a vysokokvalitné nanášanie tenkých vrstiev zabezpečením rovnomernej distribúcie tepla a reakčného prostredia, čím sa dosiahne vysokokvalitná výroba tenkých vrstiev.

Aixtron MOCVD receptorsa zvyčajne používa na podopretie a upevnenie základne polovodičových doštičiek, aby sa zabezpečila stabilita doštičky počas procesu nanášania. Zároveň je povrchová vrstva Aixtron MOCVD Susceptor vyrobená z karbidu kremíka (SiC), vysoko tepelne vodivého materiálu. Povlak SiC zaisťuje rovnomernú teplotu na povrchu plátku a rovnomerné zahrievanie je nevyhnutné na získanie vysokokvalitných filmov.

Navyše,Aixtron MOCVD receptorNami vyrábaný hrá väčšiu úlohu pri riadení toku a distribúcie reaktívnych plynov prostredníctvom optimalizovaného dizajnu materiálov. Vyhnite sa vírivým prúdom a teplotným gradientom, aby ste dosiahli rovnomerné ukladanie filmu.

Ešte dôležitejšie je, že v procese MOCVD má povlakový materiál z karbidu kremíka (SiC) odolnosť proti korózii, takžeVetek Semiconductor'sAixtron MOCVD receptorodoláva aj vysokým teplotám a korozívnym plynom.

Základné fyzikálne vlastnostiSIC NÁTER:

VeTek Semiconductor Wafer Boat obchody:

Prehľad priemyselného reťazca epitaxie polovodičových čipov: