MOCVD LED Epi Susceptor

Semiconductor VeTeksMOCVD LED Epi Susceptorje základnou zložkou. V procese prípravy polovodičových zariadeníMOCVD LED Epi Susceptorje nielen jednoduchá vykurovacia platforma, ale aj presný procesný nástroj, ktorý má zásadný vplyv na kvalitu, rýchlosť rastu, rovnomernosť a ďalšie aspekty tenkovrstvových materiálov.

Konkrétne použitiaMOCVD LED Epi Susceptorpri spracovaní polovodičov sú nasledovné:

Ohrievanie podkladu a kontrola rovnomernosti:

MOCVD epitaxný susceptor sa používa na zabezpečenie rovnomerného zahrievania, aby sa zabezpečila stabilná teplota substrátu počas epitaxného rastu. To je nevyhnutné na získanie vysokokvalitných polovodičových filmov a zabezpečenie konzistencie hrúbky a kvality kryštálov epitaxných vrstiev naprieč substrátom.

Podpora komôr reaktora na chemické nanášanie pár (CVD).:

Susceptor ako dôležitý komponent v CVD reaktore podporuje ukladanie kovových organických zlúčenín na substráty. Pomáha presne previesť tieto zlúčeniny na pevné filmy, aby sa vytvorili požadované polovodičové materiály.

Podporovať distribúciu plynu:

Konštrukcia susceptora môže optimalizovať distribúciu toku plynov v reakčnej komore, čím sa zabezpečí, že sa reakčný plyn dostane do kontaktu so substrátom rovnomerne, čím sa zlepší rovnomernosť a kvalita epitaxných filmov.

Môžete si byť istí, že si kúpite prispôsobenéMOCVD LED Epi Susceptorod nás, tešíme sa na spoluprácu s vami. Ak chcete vedieť viac informácií, môžete nás okamžite konzultovať a my vám včas odpovieme!

Základné fyzikálne vlastnosti CVD SiC povlaku:

Výrobné dielne:

Prehľad priemyselného reťazca epitaxie polovodičových čipov：