Trojvrstvový krúžok potiahnutý TaC

VeTek Semiconductor je popredný výrobca a inovátor krúžkov s tromi okvetnými lístkami s povlakom TaC v Číne. Už mnoho rokov sa špecializujeme na povlaky TaC a SiC. Naše výrobky majú odolnosť proti korózii, vysokú pevnosť. Tešíme sa, že sa staneme vaším dlhodobým partnerom v Číne.

Odoslať dopyt

Popis produktu

VeTek Semiconductor je profesionálny čínsky výrobca a dodávateľ krúžku s tromi okvetnými lístkami s povlakom TaC. Prsteň s tromi okvetnými lístkami s povlakom TaC sa používa v systéme Aixtron G10-deposition pre zložený polovodič, G10-GaN 150/200 mm vysokovýkonná epitaxia pre napájanie GaN a RF aplikácie.

VeTek Semiconductor TaC povlak je nová generácia materiálu odolného voči vysokým teplotám, s lepšou stabilitou pri vysokých teplotách ako SiC, ako povlak odolný voči korózii, povlak odolný voči oxidácii, povlak odolný voči opotrebovaniu, môže byť použitý v prostredí nad 2000 ℃, široko používaný v letecký priemysel ultravysokoteplotných horúcich koncov, tretia generácia rastu polovodičových monokryštálov a ďalšie oblasti.

Vlastnosti produktu:

1. Vysoká čistota, obsah nečistôt < 5ppm

2. Vysoká teplotná odolnosť, odolnosť proti korózii, vysoká hustota, vysoká hustota

3. Je chemicky inertný voči amoniaku, vodíku, silánu a kremíku pri vysokej teplote a má dobrú tepelnú stabilitu.

4. Odolnosť voči tepelným šokom môže urýchliť pracovný cyklus

5. Silná grafitová priľnavosť zaisťuje dlhú životnosť a nedochádza k delaminácii povlaku.

6. Prísne tolerancie rozmerov.

Hlavné aplikácie:

1. Epitaxný rast

2. Rast monokryštálov

3. Odklon vysokoteplotnej korózie

4. Tryska odolná voči vysokej teplote a oxidácii

5. Lopatky plynovej turbíny

Produktový parameter trojlístkového krúžku s povlakom TaC

Fyzikálne vlastnosti povlaku TaC
Hustota	14,3 (g/cm³)
Špecifická emisivita	0.3
Koeficient tepelnej rozťažnosti	6,3 10-6/K
Tvrdosť (HK)	2000 HK
Odpor	1×10-5 Ohm*cm
Tepelná stabilita	<2500 ℃
Veľkosť grafitu sa mení	-10~-20um
Hrúbka povlaku	≥20um typická hodnota (35um±10um)