Rúrka potiahnutá karbidom tantalu na rast kryštálov

VeTek Semiconductor je popredná trubica potiahnutá karbidom tantalu pre výrobcu a inovátora Crystal Growth v Číne. Už mnoho rokov sa špecializujeme na keramické povlaky. Naše produkty majú vysokú čistotu a odolnosť voči vysokej teplote. Tešíme sa, že sa staneme vaším dlhodobým partnerom v Číne.

Odoslať dopyt

Popis produktu

Môžete si byť istí, že si kúpite prispôsobenú trubicu potiahnutú karbidom tantalu na rast kryštálov od spoločnosti VeTek Semiconductor. Tešíme sa na spoluprácu, ak chcete vedieť viac, môžete sa s nami poradiť už teraz, včas vám odpovieme!

VeTek Semiconductor ponúka trubicu potiahnutú karbidom tantalu na rast kryštálov špeciálne navrhnutú na rast kryštálov SiC pomocou metódy fyzikálnej parnej prepravy (PVT). Grafitové trubice VeTek Semiconductor sa vyznačujú vysokou čistotou s povlakom karbidu tantalu CVD, ktorý zaisťuje optimálny výkon pri raste kryštálov SiC. Kryštály SiC, známe ako polovodiče tretej generácie, majú obrovský potenciál v rôznych aplikáciách. Využitím našej trubice potiahnutej karbidom tantalu na rast kryštálov môžu výskumníci a profesionáli z priemyslu efektívne optimalizovať rast SiC a produkovať vysokokvalitné kryštály SiC. Či už sa zaoberáte výskumom alebo priemyselnou výrobou, naše produkty poskytujú spoľahlivé riešenia pre efektívny rast kryštálov SiC.

Okrem grafitovej trubice potiahnutej TaC VeTek Semiconductor dodáva aj krúžky potiahnuté TaC, téglik potiahnutý TaC, porézny grafit potiahnutý TaC, grafitový susceptor potiahnutý TaC, vodiaci krúžok potiahnutý TaC, platňu potiahnutú karbidom tantalu, potiahnutý krúžok TaC, potiahnutý grafitový kryt TaC, potiahnutý TaC kus pre pec na rast kryštálov, ako je uvedené nižšie:

Metóda PVT Rast kryštálov SiC

Produktový parameter trubice potiahnutej karbidom tantalu na rast kryštálov

Fyzikálne vlastnosti povlaku TaC
Hustota	14,3 (g/cm³)
Špecifická emisivita	0.3
Koeficient tepelnej rozťažnosti	6,3 10-6/K
Tvrdosť (HK)	2000 HK
Odpor	1×10-5 Ohm*cm
Tepelná stabilita	<2500 ℃
Veľkosť grafitu sa mení	-10~-20um
Hrúbka povlaku	≥20um typická hodnota (35um±10um)