VeTek Semiconductor má výhodu a skúsenosti s náhradnými dielmi MOCVD Technology.
MOCVD, celý názov Metal-Organic Chemical Vapour Deposition (metal-organic Chemical Vapour Deposition), možno tiež nazvať epitaxia kovovo-organickej parnej fázy. Organokovové zlúčeniny sú triedou zlúčenín s väzbami kov-uhlík. Tieto zlúčeniny obsahujú aspoň jednu chemickú väzbu medzi kovom a atómom uhlíka. Kovovo-organické zlúčeniny sa často používajú ako prekurzory a môžu vytvárať tenké filmy alebo nanoštruktúry na substráte prostredníctvom rôznych depozičných techník.
Kovovo-organické chemické nanášanie pár (technológia MOCVD) je bežná technológia epitaxného rastu, technológia MOCVD sa široko používa pri výrobe polovodičových laserov a LED diód. Najmä pri výrobe LED je MOCVD kľúčovou technológiou na výrobu nitridu gália (GaN) a príbuzných materiálov.
Existujú dve hlavné formy epitaxie: epitaxia v tekutej fáze (LPE) a epitaxia v parnej fáze (VPE). Epitaxia v plynnej fáze môže byť ďalej rozdelená na kovovo-organickú chemickú depozíciu z plynnej fázy (MOCVD) a epitaxiu s molekulárnym lúčom (MBE).
Zahraničných výrobcov zariadení zastupujú najmä Aixtron a Veeco. Systém MOCVD je jedným z kľúčových zariadení na výrobu laserov, LED diód, fotoelektrických komponentov, napájania, RF zariadení a solárnych článkov.
Hlavné vlastnosti náhradných dielov technológie MOCVD vyrábaných našou spoločnosťou:
1) Vysoká hustota a úplné zapuzdrenie: grafitová základňa ako celok je vo vysokoteplotnom a korozívnom pracovnom prostredí, povrch musí byť úplne zabalený a náter musí mať dobré zahustenie, aby mohol hrať dobrú ochrannú úlohu.
2) Dobrá rovinnosť povrchu: Pretože grafitový základ používaný na rast monokryštálov vyžaduje veľmi vysokú rovinnosť povrchu, pôvodná rovinnosť základne by sa mala zachovať aj po príprave náteru, to znamená, že vrstva náteru musí byť rovnomerná.
3) Dobrá pevnosť spoja: Znížte rozdiel v koeficiente tepelnej rozťažnosti medzi grafitovou základňou a náterovým materiálom, čo môže účinne zlepšiť pevnosť spoja medzi nimi, a náter nie je ľahké prasknúť po vystavení vysokej a nízkej teplote. cyklu.
4) Vysoká tepelná vodivosť: vysokokvalitný rast čipov vyžaduje, aby grafitový základ poskytoval rýchle a rovnomerné teplo, takže náterový materiál by mal mať vysokú tepelnú vodivosť.
5) Vysoká teplota topenia, odolnosť proti oxidácii pri vysokej teplote, odolnosť proti korózii: náter by mal byť schopný pracovať stabilne vo vysokoteplotnom a korozívnom pracovnom prostredí.
Umiestnite 4-palcový substrát
Modro-zelená epitaxia pre pestovanie LED
Umiestnené v reakčnej komore
Priamy kontakt s oblátkou Umiestnite 4-palcový substrát
Používa sa na pestovanie UV LED epitaxnej fólie
Umiestnené v reakčnej komore
Priamy kontakt s oblátkou Stroj Veeco K868/Veeco K700
Biela LED epitaxia/Modrozelená LED epitaxia Používa sa v zariadeniach VEECO
Pre MOCVD epitaxiu
SiC povlakový susceptor Vybavenie Aixtron TS
Hlboká ultrafialová epitaxia
2-palcový substrát Vybavenie Veeco
Červeno-žltá LED epitaxia
4-palcový Wafer Substrát Susceptor potiahnutý TaC
(SiC Epi/UV LED prijímač) Susceptor potiahnutý SiC
(ALD/ Si Epi/ LED MOCVD susceptor)
Vetek Semiconductor sa venuje rozvoju a komercializácii povlakov CVD SiC a CVD TaC. Pre ilustráciu, naše segmenty povlaku SiC prechádzajú starostlivým spracovaním, výsledkom čoho je hustý CVD povlak SiC s výnimočnou presnosťou. Vykazuje pozoruhodnú odolnosť voči vysokým teplotám a ponúka robustnú ochranu proti korózii. Vítame vaše otázky.
Čítaj viacOdoslať dopytVetek Semiconductor sa zameriava na výskum, vývoj a industrializáciu CVD SiC povlaku a CVD TaC povlaku. Ak vezmeme ako príklad MOCVD Susceptor, produkt je vysoko spracovaný s vysokou presnosťou, hustým povlakom CVD SIC, odolnosťou voči vysokej teplote a silnou odolnosťou proti korózii. Dopyt na nás je vítaný.
Čítaj viacOdoslať dopytVeTek Semiconductor je profesionálny výrobca a dodávateľ, ktorý sa venuje poskytovaniu vysokokvalitného epitaxného susceptora MOCVD pre 4" Wafer. S bohatými priemyselnými skúsenosťami a profesionálnym tímom sme schopní našim klientom dodávať odborné a efektívne riešenia.
Čítaj viacOdoslať dopytVeTek Semiconductor's Semiconductor susceptorový blok potiahnutý SiC je vysoko spoľahlivé a odolné zariadenie. Je navrhnutý tak, aby odolal vysokým teplotám a drsnému chemickému prostrediu pri zachovaní stabilného výkonu a dlhej životnosti. Semiconductor Susceptor Block SiC Coated so svojimi vynikajúcimi procesnými schopnosťami znižuje frekvenciu výmeny a údržby, čím zvyšuje efektivitu výroby. Tešíme sa na príležitosť s vami spolupracovať.
Čítaj viacOdoslať dopytVeTek Semiconductor's SiC Coated MOCVD Susceptor je zariadenie s vynikajúcim procesom, odolnosťou a spoľahlivosťou. Vydržia vysoké teploty a chemické prostredie, udržujú stabilný výkon a dlhú životnosť, čím znižujú frekvenciu výmeny a údržby a zlepšujú efektivitu výroby. Náš epitaxný susceptor MOCVD je známy svojou vysokou hustotou, vynikajúcou rovinnosťou a vynikajúcou tepelnou kontrolou, vďaka čomu je preferovaným zariadením v náročných výrobných prostrediach. Tešíme sa na spoluprácu s Vami.
Čítaj viacOdoslať dopytVeTek Semiconductor je profesionálny výrobca a dodávateľ, ktorý sa venuje poskytovaniu vysokokvalitného epitaxného susceptora GaN na báze kremíka. Susceptorový polovodič sa používa v systéme VEECO K465i GaN MOCVD, vysoká čistota, odolnosť voči vysokej teplote, odolnosť proti korózii, vitajte, ak sa chcete opýtať a spolupracovať s nami!
Čítaj viacOdoslať dopyt