Náhradný diel na povlak TaC

VeTek Semiconductor je profesionálny výrobca TaC Coating Plate a iných náhradných dielov TaC Coating v Číne. TaC Coating sa v súčasnosti používa hlavne v procesoch, ako je rast monokryštálov karbidu kremíka (metóda PVT), epitaxiálny disk (vrátane epitaxie karbidu kremíka, LED epitaxie) atď. V kombinácii s dobrou dlhodobou stabilitou TaC Coating Plate, VeTek Semiconductor TaC Coating Plate sa stal štandardom pre náhradné diely TaC Coating. Tešíme sa, že sa stanete našim dlhodobým partnerom.

Odoslať dopyt

Popis produktu

Semiconductor VeTekTaC poťahová doskaje špeciálny materiál široko používaný vpolovodičvýrobný proces. V kombinácii s vysokou tvrdosťou a odolnosťou proti opotrebeniu, vysokou teplotnou odolnosťou, odolnosťou proti korózii, nízkym koeficientom trenia a dobrou tepelnou vodivosťou hrá TaC povlaková doska nenahraditeľnú úlohu v mnohých spojoch spracovania polovodičov.

Všeobecne platí, že aplikácieDoštičky potiahnuté TaCpri spracovaní polovodičov sú nasledovné:

CVD/ALD rastový substrát: Vysoká teplotná odolnosť, chemická stabilita a nízky koeficient trenia z dosiek potiahnutých TaC z nich robia ideálne rastové substráty CVD/ALD. Môže poskytnúť stabilné rastové prostredie, aby sa zabezpečila rovnomernosť a hustota filmu.

Leptacia masková doska: Vysoká tvrdosť a odolnosť proti korózii dosiek potiahnutých TaC im umožňuje odolávať vysokoenergetickým procesom, ako je plazmové leptanie, ako leptacie maskové dosky, ktoré chránia podkladový film.

CMP leštiaci pad: Odolnosť proti opotrebeniu a nízky koeficient trenia dosiek potiahnutých TaC z nich robí ideálne materiály pre leštiace vankúšiky CMP, ktoré dokážu účinne odstrániť častice a defekty na povrchu filmu.

Rúrka pece s vysokou teplotou: Vysoká teplotná odolnosť a odolnosť proti korózii TaC potiahnutých dosiek umožňuje ich použitie ako pecové rúry vo vysokoteplotných peciach na vysokoteplotné žíhanie, difúziu a iné procesy.

V kombinácii s vlastnosťami produktuTaC poťahová doska, určuje, že tento produkt zohráva nenahraditeľnú kľúčovú úlohu pri zlepšovaní výkonu zariadenia, predlžovaní životnosti zariadení a zlepšovaní efektivity výroby.

Ako profesionálny výrobcaGaN na SiC epi akceptore, Porézny grafitaTaC poťahová doskav Číne VeTek Semiconductor vždy trvá na poskytovaní prispôsobených produktových služieb a je odhodlaný poskytovať odvetviu špičkové technológie a produktové riešenia. Úprimne sa tešíme na vašu ďalšiu konzultáciu.

CVD TAC COATING Technické parametre：