Čína Povlak z karbidu kremíka výrobca, dodávateľ, továreň

VeTek Semiconductor sa špecializuje na výrobu ultračistých produktov s povlakom z karbidu kremíka, tieto povlaky sú určené na aplikáciu na čistený grafit, keramiku a žiaruvzdorné kovové komponenty.

Naše vysoko čisté nátery sú primárne určené na použitie v polovodičovom a elektronickom priemysle. Slúžia ako ochranná vrstva pre doštičkové nosiče, susceptory a vyhrievacie prvky a chránia ich pred korozívnym a reaktívnym prostredím, ktoré sa vyskytuje v procesoch ako MOCVD a EPI. Tieto procesy sú neoddeliteľnou súčasťou spracovania plátkov a výroby zariadení. Okrem toho sú naše nátery vhodné pre aplikácie vo vákuových peciach a ohrev vzoriek, kde sa stretávame s vysokým vákuom, reaktívnym a kyslíkovým prostredím.

Vo VeTek Semiconductor ponúkame komplexné riešenie s našimi pokročilými možnosťami strojárskej dielne. To nám umožňuje vyrábať základné komponenty s použitím grafitu, keramiky alebo žiaruvzdorných kovov a nanášať keramické povlaky SiC alebo TaC vo vlastnej réžii. Poskytujeme tiež lakovacie služby pre diely dodané zákazníkom, čím zaisťujeme flexibilitu pri splnení rôznych potrieb.

Naše produkty s povlakom z karbidu kremíka sa široko používajú v epitaxii Si, epitaxii SiC, systéme MOCVD, procese RTP / RTA, procese leptania, procese leptania ICP / PSS, procese rôznych typov LED vrátane modrej a zelenej LED, UV LED a hlbokého UV LED atď., Ktoré sú prispôsobené zariadeniam od LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI atď.

Časti reaktora, ktoré vieme urobiť:

Povlak z karbidu kremíka má niekoľko jedinečných výhod:

Silicon Carbide Coating several unique advantages

Parameter povlaku polovodičového karbidu kremíka VeTek:

Základné fyzikálne vlastnosti CVD SiC povlaku
Nehnuteľnosť	Typická hodnota
Kryštálová štruktúra	FCC β fáza polykryštalická, hlavne (111) orientovaná
Hustota	3,21 g/cm³
Tvrdosť	Tvrdosť 2500 Vickers (záťaž 500g)
Veľkosť zrna	2 ~ 10 μm
Chemická čistota	99,99995 %
Tepelná kapacita	640 J·kg-1·K-1
Teplota sublimácie	2700 ℃
Pevnosť v ohybe	415 MPa RT 4-bod
Youngov modul	Ohyb 430 Gpa 4pt, 1300 ℃
Tepelná vodivosť	300W·m-1·K-1
Tepelná expanzia (CTE)	4,5×10-6K-1

SEM data and structure of CVD SIC films

View as

Masívna plynová sprchová hlavica SiC

VeTek Semiconductor je popredným výrobcom a inovátorom plynovej sprchovej hlavice z pevného SiC v Číne. Už mnoho rokov sa špecializujeme na polovodičový materiál. Viacporézny dizajn hlavice VeTek Semiconductor na plynovú sprchovú hlavicu z pevného SiC zaisťuje, že teplo generované v procese CVD môže byť rozptýlené , čím sa zabezpečí rovnomerné zahrievanie substrátu. Tešíme sa na dlhodobé zriadenie s vami v Číne.

Čítaj viac Odoslať dopyt

Proces chemického naparovania Pevný okrajový krúžok SiC

VeTek Semiconductor je popredným výrobcom a inovátorom pevného SiC krúžku v oblasti chemického naparovania v Číne. Už mnoho rokov sa špecializujeme na polovodičový materiál. Pevný okrajový krúžok VeTek Semiconductor ponúka vylepšenú rovnomernosť leptania a presné umiestnenie plátku pri použití s elektrostatickým skľučovadlom , zabezpečujúce konzistentné a spoľahlivé výsledky leptania. Tešíme sa, že sa staneme vaším dlhodobým partnerom v Číne.

Čítaj viac Odoslať dopyt

Masívny zaostrovací krúžok na leptanie SiC

VeTek Semiconductor je popredným výrobcom a inovátorom zaostrovacích krúžkov na leptanie pevných SiC v Číne. Už mnoho rokov sa špecializujeme na materiál SiC. Pevný SiC je vybraný ako materiál zaostrovacieho prstenca vďaka svojej vynikajúcej termochemickej stabilite, vysokej mechanickej pevnosti a odolnosti voči plazme erózia. Tešíme sa, že sa staneme vaším dlhodobým partnerom v Číne.

Čítaj viac Odoslať dopyt

<...12 13 14 15 16 >

Ako profesionálny výrobca a dodávateľ Povlak z karbidu kremíka v Číne máme vlastnú továreň. Či už potrebujete prispôsobené služby, ktoré spĺňajú špecifické potreby vášho regiónu, alebo si chcete kúpiť moderné a odolné Povlak z karbidu kremíka vyrobené v Číne, môžete nám zanechať správu.