Čína Proces epitaxie SiC výrobca, dodávateľ, továreň

Jedinečné karbidové povlaky VeTek Semiconductor poskytujú vynikajúcu ochranu grafitovým častiam v procese SiC Epitaxy na spracovanie náročných polovodičových a kompozitných polovodičových materiálov. Výsledkom je predĺžená životnosť grafitových komponentov, zachovanie stechiometrie reakcie, inhibícia migrácie nečistôt do epitaxných a rastových aplikácií, čo vedie k zvýšeniu výťažku a kvality.

Naše povlaky z karbidu tantalu (TaC) chránia kritické komponenty pecí a reaktorov pri vysokých teplotách (až do 2200 °C) pred horúcim amoniakom, vodíkom, parami kremíka a roztavenými kovmi. VeTek Semiconductor má širokú škálu možností spracovania a merania grafitu, aby vyhovoval vašim prispôsobeným požiadavkám, takže môžeme ponúknuť spoplatnený náter alebo kompletný servis s naším tímom odborných inžinierov pripravených navrhnúť správne riešenie pre vás a vašu konkrétnu aplikáciu. .

Zložené polovodičové kryštály

VeTek Semiconductor môže poskytnúť špeciálne TaC povlaky pre rôzne komponenty a nosiče. Prostredníctvom špičkového procesu poťahovania od spoločnosti VeTek Semiconductor môže povlak TaC získať vysokú čistotu, stabilitu pri vysokej teplote a vysokú chemickú odolnosť, čím sa zlepšuje kvalita produktu kryštálových vrstiev TaC/GaN) a EPl a predlžuje sa životnosť kritických komponentov reaktora.

Tepelné izolátory

Komponenty na rast kryštálov SiC, GaN a AlN vrátane téglikov, držiakov semien, deflektorov a filtrov. Priemyselné zostavy vrátane odporových vykurovacích telies, trysiek, tieniacich krúžkov a spájkovacích prípravkov, GaN a SiC epitaxiálnych CVD reaktorových komponentov vrátane nosičov plátkov, satelitných podnosov, sprchových hlavíc, uzáverov a podstavcov, MOCVD komponentov.

Účel:

Nosič plátku LED (dióda vyžarujúca svetlo).

ALD (polovodičový) prijímač

EPI receptor (SiC epitaxný proces)

Satelitný susceptor potiahnutý TaC TaC povlakový susceptor a krúžok Časti povlaku TaC Časti Halfmoon s povlakom TaC

Porovnanie povlaku SiC a povlaku TaC:

	SiC	TaC
Hlavné rysy	Ultra vysoká čistota, vynikajúca plazmová odolnosť	Vynikajúca stabilita pri vysokej teplote (prispôsobenie procesu pri vysokej teplote)
Čistota	>99,9999 %	>99,9999 %
Hustota (g/cm 3)	3.21	15
Tvrdosť (kg/mm 2)	2900-3300	6,7-7,2
Odpor [Ωcm]	0,1-15 000	<1
Tepelná vodivosť (W/m-K)	200-360	22
Koeficient tepelnej rozťažnosti (10-6/℃)	4,5-5	6.3
Aplikácia	Polovodičové vybavenie Keramický prípravok (zaostrovací krúžok, sprchová hlavica, maketa plátku)	SiC rast monokryštálov, Epi, časti UV LED zariadenia

View as

Prsteň z karbidu tantalu

Ako pokročilý výrobca a výrobca produktov z karbidu tantalu v Číne má VeTek Semiconductor karbidu tantalu extrémne vysokú tvrdosť, odolnosť proti opotrebeniu, odolnosť voči vysokej teplote a chemickú stabilitu a je široko používaný v oblasti výroby polovodičov. Najmä v oblasti CVD, PVD, iónovej implantácie, leptania a spracovania a prepravy plátkov je nepostrádateľným produktom pre spracovanie a výrobu polovodičov. Tešíme sa na vašu ďalšiu konzultáciu.

Čítaj viac Odoslať dopyt

Podpora povlaku z karbidu tantalu

Ako profesionálny výrobca a továreň na nanášanie povlaku z karbidu tantalu v Číne sa VeTek Semiconductor na povlak karbidu tantalu zvyčajne používa na povrchové nátery konštrukčných komponentov alebo podporných komponentov v polovodičových zariadeniach, najmä na ochranu povrchu kľúčových komponentov zariadení v procesoch výroby polovodičov, ako napr. CVD a PVD. Vítam vašu ďalšiu konzultáciu.

Čítaj viac Odoslať dopyt

Vodiaci krúžok z karbidu tantalu

VeTek Semiconductor je profesionálny výrobca a líder produktov vodiacich krúžkov z karbidu tantalu v Číne. Náš vodiaci krúžok z karbidu tantalu (TaC) je vysoko výkonný krúžok vyrobený z karbidu tantalu, ktorý sa bežne používa v zariadeniach na spracovanie polovodičov, najmä vo vysokoteplotných a vysoko korozívnych prostrediach, ako je CVD, PVD, leptanie a difúzia. VeTek Semiconductor je odhodlaný poskytovať pokročilé technológie a produktové riešenia pre polovodičový priemysel a víta vaše ďalšie otázky.

Čítaj viac Odoslať dopyt

Rotačný susceptor povlaku TaC

Ako profesionálny výrobca, inovátor a líder produktov TaC Coating Rotation Susceptor v Číne. Rotačný susceptor VeTek Semiconductor TaC Coating sa zvyčajne inštaluje v zariadení na chemické vylučovanie z plynnej fázy (CVD) a epitaxiu molekulárnym lúčom (MBE) na podporu a otáčanie plátkov, aby sa zabezpečilo rovnomerné ukladanie materiálu a efektívna reakcia. Je to kľúčový komponent pri spracovaní polovodičov. Vítam vašu ďalšiu konzultáciu.

Čítaj viac Odoslať dopyt

CVD TaC poťahovací téglik

VeTek Semiconductor je profesionálny výrobca a líder produktov CVD TaC Coating Crucible v Číne. CVD TaC Coating Crucible je založený na povlaku tantalového uhlíka (TaC). Tantalový uhlíkový povlak je rovnomerne pokrytý na povrchu téglika procesom chemického nanášania pár (CVD), aby sa zvýšila jeho tepelná odolnosť a odolnosť proti korózii. Je to materiálový nástroj špeciálne používaný v extrémnych prostrediach s vysokou teplotou. Vítam vašu ďalšiu konzultáciu.

Čítaj viac Odoslať dopyt

CVD TaC povlakový nosič plátku

VeTek Semiconductor CVD TaC Coating Wafer Carrier, ako profesionálny výrobca a továreň na nosiče povlakov CVD TaC v Číne, je nástroj na prenášanie plátkov špeciálne navrhnutý pre vysokoteplotné a korozívne prostredie pri výrobe polovodičov. a CVD TaC Coating Wafer Carrier má vysokú mechanickú pevnosť, vynikajúcu odolnosť proti korózii a tepelnú stabilitu, čo poskytuje potrebnú záruku na výrobu vysoko kvalitných polovodičových súčiastok. Vaše ďalšie otázky sú vítané.

Čítaj viac Odoslať dopyt

<1 2 3 4 5...7 >

Ako profesionálny výrobca a dodávateľ Proces epitaxie SiC v Číne máme vlastnú továreň. Či už potrebujete prispôsobené služby, ktoré spĺňajú špecifické potreby vášho regiónu, alebo si chcete kúpiť moderné a odolné Proces epitaxie SiC vyrobené v Číne, môžete nám zanechať správu.